2017年2月20日

批次細胞量化適用, 日製厭氧培養箱



Cell stack 適用 厭氧培養箱

生醫級專用厭氧培養箱 (10/40層cell stack皆適用)

1.內建循環風扇,快速恆溫

2.具電腦系統監測: 培養時間、溫度、氣體濃度與流量

3.CO2濃度調控: 3~8% (IR式)
O2濃度調控: 1~25% (ZrO2)

4.可選配H2O2滅菌裝置、自動注/排液裝置非接觸式顯微裝置

5.可客製化Cuture room適用機種
小型多氣體控制培養箱
1.CO2調控: 3~10% (IR式), O2調控: 1~25% (ZrO2)

2.可調控氣體流速
3.可通入CO2 、O2與氮氣,具備自動切換備用氣瓶功能

4.可選配UV滅菌燈及氮氣產生器等

5.內部可放置振盪器或小型儀器使用

更多Cellstack相關商品

Cuture room專用厭氣培養裝置 (客製品)
1. 具二氧化碳與氧氣調控

2. 可調整氣體流速

3. 適合醫療量產使用
顯微觀察裝置
(Cellstack專用)
1. Cellstack培養盤1~40盤皆可進行觀察

2. 自動機械手臂操作

3. 無須採樣即可掌控培養狀態

連結: 展示影片

*可搭配市面上多家廠牌之批次培養盤使用
自動注液與振盪裝置

1. 單次可進行4組40層cellstack 注液.取樣或振盪功能

2. 自動機械操作, 節省人力

3. 適合大量生產使用

連結: 手動注液展示影片

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全自動凱氏氮蒸餾機,縮短分析時間。

VELP SCIENTIFICA




VELP UDK 149 
 
 
 
 
 
 
 
 
 
VELP SCIENTIFICA
Velp Scientifica 設立於義大利,是一家專門生產用於實驗室、大學、研究中心及企業之科學設備的廠商。Velp擁有多項國際認證,其生產設備也符合多種國際標準,其設備主要用於環境分析、食品成分分析及加熱攪拌處理等領域。目前Velp除義大利外,在世界多國均設有代理商。未來Velp仍會持續致力於產品開發,為提供客戶可信賴且高品質的設備。
 
UDK 149 全自動凱氏氮蒸餾裝置
UDK 149是一台全自動凱氏氮蒸餾機,具下列特點:
1.可自動添加鹼液、稀釋水及吸收液(硼酸)。
2.可調節蒸氣強度(10%~100%)。
3.可設定蒸餾延遲時間。
4.可外接自動滴定儀(多種廠牌,選配),自動啟動滴定程序。
5.20組可編輯程式,1組清洗程式。
6.高抗鹼聚合物噴濺頭。
7.試劑存量警報。
8.自動排空蒸餾廢液及滴定廢液,自動清洗滴定槽。

無壓式蒸氣產生器


1.具專利,市場唯一。
2.無壓式設計,沒有過壓安全問題。
3.無須維護。
4.無熱擴散問題,高再現性。
5.無須控溫。

高抗腐蝕聚合物噴濺頭


1.使用壽命較玻璃製噴濺頭長。
2.清潔時無破裂疑慮。
3.高化學抗性。
4.無須維護。
5.易拆卸更換。

 鈦合金冷凝管


1.專利申請中,市場唯一。
2.堅固耐用,高冷卻效率。
3.高化學抗性。
4.可有效降低冷凝水需求(15°C,0.5L/min)。
5.易拆卸清洗,無破裂疑慮。


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2017年2月17日

活體細胞用 顯微鏡溫控平台

活體細胞用顯微鏡溫控平台
生殖研究、活體細胞觀察專用溫控平台,可進行0.16度高精準控溫,並搭配特殊設計高精度玻片型液晶溫度計,可即時確認樣品溫度

英國LINKAM WS37 活體細胞顯微鏡溫控平台

  • 採用0.5mm光學級ITO溫控玻璃平台,提供最佳透光率,在溫控的同時不影響顯微鏡光學性能
  • 75 x 55mm大面積溫控範圍
  • 彩色液晶觸控控制器,操作簡單方便。一台控制器可控制兩組溫控平台
  • 溫控範圍:室溫 ~ 50度
  • +/- 0.16度高精準測溫
  • 操作時可即時儲存溫度曲線並下載至電腦使用
  • 附玻片型+/- 0.1度高精度液晶溫度計,可同時放置於溫控平台上確認有達設定的溫度
  • 通過EMC測試,可用於醫院、IVF等環境
  • 可安裝於各大廠牌顯微鏡

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德國NETZSCH STA 449 F5同步熱分析儀

德國NETZSCH STA 449 F5同步熱分析儀





德國NETZSCH的STA 449 F5 熱重、熱示差同步熱分析儀,憑藉著140年的專業經驗所開發高規格熱分析設備,滿足您實驗的需求。

上置式天平
上置式天平
上置式設計便於樣品擺放及保持天平穩定


浮力校正
自動浮力校正
可依使用的氣氛、氣體流量、升降溫速率等自動修正浮力影響,不需跑空白基線
1600度高溫爐體
1600度高溫爐體
採用高品質爐體及高階溫控系統,可確保樣品溫度達1600度

自動氣氛控制
全自動氣氛控制
內建有MFC質量流量控制器及自動真空系統,可進行全自動的氣氛控制
高解析天平
大載量高解析天平
35g載重及量測範圍,全段0.1ug高解析天平,再微小的熱重變化也可輕易檢出

氣體分析聯用
可串連氣體分析
可與FTIR、GC-MS、MS串連,進行尾氣成分分析

德國NETZSCH STA 449 F5   1600℃熱重、熱示差掃描分析儀
STA 449 F5
(圖中auto sampler 為選購品)

規格:
  • 溫度範圍:室溫 ~ 1600度(樣品可實際達到1600度)
  • 升溫速率:0.001 ~ 50 K/min
  • 量測參數:TG、DSC、Cp (選購)
  • 最大載重量及秤重範圍:35g
  • 天平解析度:0.1ug

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2017年2月15日

【氧化安定性分析儀】 測試脂肪及油脂的氧化程度

AOCS No. Cd 12c-16
利用VELP 氧化安定性分析儀測試脂肪及油脂的氧化安定性


預測脂肪氧化

VELP 氧化安定性分析儀之分析法是國際認證的氧化安定性分析法,研究者可用為食品、脂肪及油脂的氧化安定性分析研究。特別是食品工業中,原料及成品的氧化安定性訊息是非常重要的。
國際認證

VELP 氧化安定性分析儀之分析法已被AOCS(Cd 12c-16)認證為分析食品、脂肪及油脂氧化安定性的標準方法,將刊登於 7th Edition Official Methods and Recommended Practices of the AOCS(American Oil Chemist's Society)中。
Oxitest配置有2組可完全密封的鈦合金加熱樣本槽。樣本無須任何前處理,將樣本放入分析樣本槽,通入純氧(0-8 bar),設定加熱溫度(室溫~110°C)後開始測試。操作軟體會記錄氧氣壓力變化,找出氧化誘導期(IP)發生時間,IP點越慢表示樣本的抗氧性越強。




應用

1. 預估樣本保存期限。
2. 分析樣本不同保存期間的氧化情形。
3. 評估樣本儲存環境是否適當。
4. 評估最好的包裝條件。
5. 比較不同配方的氧化安定性。
6. 評估不同來源原料的氧化安定性。
7. 評估抗氧化劑的效果。
8. 原料及成品的品質控制。




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FAX: 02-82273527
新北市中和區中正路716號13樓之3

研究級 抗腐蝕 NETZSCH 德國耐馳 TG-209 F1 熱重分析儀

研究級抗腐蝕熱重分析儀

  • 陶瓷抗腐蝕爐體,可保護加熱線圈不受樣品污染
  • 10^-2 mbar高真空爐體,可避免空氣影響測試並可利用真空改樣品成分揮發溫度,提高各階熱重損失分辨率
  • 樣品溫度最高可至1100℃,量測範圍廣
  • 水冷爐體,升溫速率可達200 K/min
  • 具Beflat浮力自動校正功能,可依升降溫溫度、控溫速率、使用的氣體種類及流量、使用的坩堝尺寸自動校正浮力,不需執行空白校正
  • 上置式天平設計,樣品擺放容易,樣品支架不會晃動
  • 放置樣品時樣品支架可自動與天平分離,避免損傷
  • 高性能熱重天平,量測範圍可達+/- 2g
  • 直接於樣品坩堝底部量測樣品溫度,可精準記錄反應溫度。熱電偶具抗腐蝕設計,可避免樣品污染
  • 搭載AutoEvaluation功能,可一鍵自動分析曲線
  • 搭載Identity功能,可自動資料庫比對樣品可能成分
  • 可選購192組樣品自動進樣機械臂進行自動測量
  • 可串連至FTIR、MS、GC-MS進行尾器分析
  • 使用標準金屬熔點進行溫度校正,操作容易


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2017年2月13日

多點式 加熱攪拌器【AM4 & AM4X】





多點式加熱攪拌器
【AM4 & AM4X】



AM4:
VELP多點式加熱磁力攪拌器,有4個獨立控制的磁力攪拌板塊,鋁板上附有一層特殊的保護層,確保熱量分佈均勻,且耐腐蝕。

AM4X:
除了包含了AM4的所有功能外,還能外接VTF溫控顯示器能在實驗過程中更精準的控制樣品溫度。

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2017年2月9日

英國 LINKAM 經典款 THMS 600 溫控平台

英國LINKAM經典款THMS 600溫控平台


  • 英國Linkam最暢銷產品,適於各種研究使用
  • 可精準、快速控溫
  • 可單獨使用,或安裝於各大廠牌光學顯微鏡、拉曼顯微鏡、FTIR、橢圓儀、XRD、SAXS進行樣品溫度控制及觀察
  • 適用穿透及反射式顯微鏡觀察
  • 可擴充電性量測接頭進行樣品電性量測
  • 氣密樣品室,可通入惰性、氧化等反應氣體
  • 具XY樣品移動轉軸,可微調樣品觀察位置
英國LINKAM THMS 600 溫控平台
  • 溫度範圍:-20 ~ 90℃,可設定10組量測溫度
  • 樣品尺寸:max. 203 x 203 x 51 mm
  • 熱傳導量測範圍:0.002 ~ 1W/mK (可擴充至2W/mK)
  • 熱阻量測範圍:0.1 ~ 8 m^2K/W (可擴充至0.05 m^2K/W)
  • 量測精度:
    • 準確度:1%
    • 重複性:0.25%
    • 再現性:0.5%
  • 上下板施力範圍:最高850N,具施力偵測器可精準控制
  • 厚度量測:具四點自動厚度測量及雙軸傾斜角度測量
  • 操作方式:可單機操作或連接電腦操作,連接電腦可量測樣品Cp及儲存測量結果,並可製作ASTM等級專業報表

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